Semi-conducteurs : un deuxième équipement EUV High NA de ASML peut-il sauver Intel ? - www.flyd.net

<body> <p>En difficulté et obligée de licencier massivement, Intel poursuit son effort en matière de gravure fine et commande un nouvel équipement de lithographie avancée à ASML.</p> <p>This page uses frames, but your browser doesn't support them.</p> </body>