ASML : la lithographie EUV High NA à peine lancée, déjà l'EUV Hyper NA en préparation - www.flyd.net

<body> <p>Pour graver à 2 nm et en-dessous, il faut passer aux équipements de lithographie EUV avancés comme le High NA. Pour descendre encore plus bas et améliorer les rendements, ASML prépare déjà l'EUV Hyper NA.</p> <p>This page uses frames, but your browser doesn't support them.</p> </body>